主持单位：物理与电子科学学院

设备名称：超高真空有机/无机镀膜系统

存放地址：综合实验楼-140

主要技术指标：真空度可达10*-6Pa；可用于热蒸发有机、无极材料；薄膜厚度精度可达0.1nm；温度可达1000℃以上。

应用领域：光伏、薄膜、半导体、电子

主要功能描述：提供超高真空环境；制备薄膜（有机无机材料皆可）；热蒸发金属电极制备薄膜太阳能电池等。